基本信息：

 四氟化碳 纯度：99.999%

 中文名称：四氟化碳

 中文别名：四氟甲烷

 CAS号：75-73-0

 EINECS：200-896-5

 分子式：CF4

 分子量：88

 物化性质：- 熔点:-184℃

 相对密度：1.603

 溶解性：不溶于水 

用途：用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气体及制冷剂

物理性质：

化学性质：

相对分子量88.00。在常温下，四氟化碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体，挥发性较高，是最稳定的有机化合物之一，不易溶于水。

在900℃时，不与铜、镍、钨、钼反应，仅在碳弧温度下缓慢分解，微溶于水，在25℃及0.1Mpa下其溶解度为0.0015%（重量比），然而与可燃性气体燃烧时，会分解产生有毒氟化物。

四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。

对于硅和二氧化硅体系，采用CF4-H2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。

在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。

由于化学稳定性极强，CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。

四氟化碳的溶氧性很好，因此被科学家用于超深度潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功，在275米到366米的深度内，小白鼠仍可安全脱险。、

四氟化碳有时会用作低温冷却剂。它可用于电路板的制造，以及制造绝缘物质和半导体。它是用作气体蚀刻剂及等离子体蚀刻版。

四氟化碳成品应存放在阴凉，干燥，通风的库房内，严禁曝晒，远离热源。

吸入四氟化碳的后果与浓度有关，包括头痛、恶心、头昏眼花及心血管系统的破坏（主要是心脏）。长时间接触会导致严重的心脏破坏。

四氟化碳的密度比较高，可以填满地面空间范围，在不通风的地方会导致窒息。